我们的优势｜离子束刻蚀

我们的优势｜离子束刻蚀

NANO-MASTER的离子束刻蚀系统有很强的适应性，可以根据不同的应用建立不同的结构，不同的样品台和离子源配置可实现不同的应用范围。系统中的样品台可实现正负90°倾斜、旋转、水冷和背氦冷却。NM成熟的技术可控制基片温度在50℃以内。通过倾斜和旋转，深沟可切成斜角，通过控制侧壁轮廓和径向可提高均匀性，不同的构造不同的应用可选择不同的选配项，也可增加溅射实现刻蚀之后的涂覆保护。应用十分广泛。

NANO-MASTER的离子束刻蚀在行业中非常有竞争力，它凭什么可以这样脱颖而出呢？

1. 计算机全自动工艺控制，具有高度的可重复性；

2. 菜单式设计，支持四级密码授权访问控制，支持不限数量的工艺程序，每一个工艺程序支持1-100个工艺步骤，操作方便；

3. 高均匀性刻蚀，6"片刻蚀均匀性优于+/-3%；

4. 支持垂直刻蚀和斜齿刻蚀；

5. 分子泵与工艺腔体采用直连设计，具有z佳的真空传导率，8小时可以达到6x10-7Torr的高工艺真空，15分钟内达到10-6Torr量级的真空；

6. 通过计算机控制分子泵的涡轮速度，直接调节分子泵的涡轮速度，从而实现下游压力的全自动调节，快速稳定；

7. 刻蚀工艺优化，防止被刻蚀的光刻胶被碳化而导致后续的去胶困难；

8. 紧凑型设计，节省占地空间，整个设备的主机占地面积仅26"x44"；

9. 关键核心组件带水冷保护，长期稳定。

此外，NANO-MASTER郑重承诺客户，由我司出售的仪器均可获得终身的售后维修服务和稳定的零配件供应。为更高效、便捷地为您提供售后服务，我们在上海设立办公处，NM售后服务工程师会竭诚为您提供优质、可靠的本地化服务。