等离子去胶机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含：大剂量离子注入后的光刻胶去除；干法刻蚀工艺的前处理或后处理；MEMS制造中的牺牲层去除。
去胶工艺是微加工实验中一个非常重要的过程。在电子束曝光、紫外曝光等微纳米加工工艺之后，都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶去除的是否干净*、对样片是否有损伤等问题将直接影响到后续工艺的顺利完成。德国ALPHA PLAMSA拥有多年的去胶经验，致力于给您提供专业的微波等离子体去胶机系统，并提供专业的技术支持服务。
等离子去胶机操作规程：
1、自动切割小车应经空车运转，并选定切割速度；
2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定；
3、高频发生器应设有屏蔽护罩，用高频引弧后，应立即切断高频电路；
4、应检查并确认电源、气源、水源无漏电、漏气、漏水，接地或接零安全可靠；
5、操作人员应站在上风处操作。可从工作台下部抽风，并宜缩小操作台上的敞开面积；
6、小车、工件应放在适当位置，并应使工件和切割电路正极接通，切割工作面下应设有溶渣坑；
7、等离子去胶机应根据工件材质、种类和厚度选定喷嘴孔径，调整切割电源、气体流量和电极的内缩量；
8、当空载电压过高时，应检查电器接地、接零和割炬手把绝缘情况，应将工作台与地面绝缘，或在电气控制系统安装空载断路断电器；
9、微波等离子去胶机操作人员必须戴好防护面罩、电焊手套、帽子、滤膜防尘口罩和隔音耳罩。不戴防护镜的人员严禁直接观察等离子弧，裸露的皮肤严禁接近等离子弧。
等离子去胶机操作及配合人员防护：
1、作业后，应切断电源，关闭气源和水源；
2、高空切割时，必须系好安全带，切接切割周围和下方应采取防火措施，并应有专人监护；
3、现场使用的等离子切割机机，应设有防雨、防潮、防晒的机棚，并应装设相应的消防器材；
4、雨天不得在露天焊割。在潮湿地带作业时，操作人员应站在铺有绝缘物品的地方，并应穿绝缘鞋；
5、对承压状态的压力容器及管道、带电设备、承载结构的受力部位和装有易燃、易爆物品的容器严禁进行切割；
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更新时间：2019-06-24 
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