硅片清洗机正向着小型化、非盒式化及一次完成化（所有清洗与干燥步骤在一个槽内进行）方向发展，以减少工艺过程中带来的沾污，满足深亚微米级器件工艺的要求。这无论对清洗工艺还是对清洗设备都是一个极大的挑战，传统的清洗方法已不能满足要求。臭氧水、兆声波、电解离子水等的应用显示出很好的去除硅片表面颗粒和金属沾污的能力，对硅片表面微观态的影响很小。而且，它们的使用使清洗设备小型化及清洗工艺一次完成化的实现成为可能。
硅片清洗机不仅保留了超声波清洗的优点，而且克服了超声波清洗的缺点。兆声无损清洗机的工作原理是利用高能（850kHz）频率效应和化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗。在清洗过程中，换能器发出的高能声波波长为1 m，频率为0.8 MHZ。在声波的驱动下，溶液的分子运动得更快。瞬时速度可达30cm/s。因此，无法形成超声清洗等气泡。相反，硅片清洗机只能用高速的流体波不断地冲击晶圆片表面，迫使附着在晶圆片表面的微小污染物颗粒被去除并进入清洗溶液中。
经济的发展，人们的生活水平不断提高，对消费品的质量要求也越来越高，等离子技术随之逐步进入生活消费品生产行业中；另外，科技的不断发展，各种技术问题的不断提出，新材料的不断涌现，越来越多的科研机构已认识到等离子技术的重要性，硅片清洗机并投入大量资金进行技术攻关，等离子技术在其中发挥了非常大的作用。我们深信等离子技术应用范围会越来越广；技术的成熟，成本的降低，其应用会更加普及。
硅片清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。
硅片清洗机有三种方法：
①刷洗或擦洗：可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。
②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。
③超声波清洗：超声波声能传入溶液，靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是，从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。
硅片清洗机发展展望：
伴随着硅片的大直径化，器件结构的超微小化、高集成化，对硅片的洁净程度、表面的化学态、微粗糙度、氧化膜厚度等表面状态的要求越来越高。
同时，要求用更经济的、给环境带来更少污染的工艺获得更高性能的硅片。高集成化的器件要求硅片清洗要尽量减少给硅片表面带来的破坏和损伤，尽量减少溶液本身或工艺过程中带来的沾污。
硅片清洗机正向着小型化、非盒式化及一次完成化（所有清洗与干燥步骤在一个槽内进行）方向发展，以减少工艺过程中带来的沾污，满足深亚微米级器件工艺的要求。这无论对清洗工艺还是对清洗设备都是一个极大的挑战，传统的清洗方法已不能满足要求。
臭氧水、兆声波、电解离子水等的应用显示出很好的去除硅片表面颗粒和金属沾污的能力，对硅片表面微观态的影响很小。而且，它们的使用使清洗设备小型化及清洗工艺一次完成化的实现成为可能。
硅片清洗机特点：
高能能有效地去除亚微米粒子。
声的产生与传统的超声空化不同，避免了对工件的损伤。
发电机配有液晶显示屏，可对运行状态进行数字化显示。
发电机配有锁相环频率自动跟踪系统，可与主计算机连接，外形设计精美。
安装方便，可与生产线配套使用。
硅片清洗机主要用于：
1. 液晶显示，手机镜头，光学设备摄像头镜头制造。
2. 汽车、摩托车制造。
3.电子、微电子、电子及电子元器件制造业。
4、五金、机械零部件行业。
5、航天、航天清洗精密零部件行业；。
6、手表、手表、珠宝——制造业。
7. 家电制造业。
8. 电镀。
硅片清洗机定期保养-每两个月一次
1. 定期清除油箱内的油垢将延长发动机的使用寿命和性能。燃料沉积会对燃油管道、燃油过滤器和化油器造成损坏。
2、当不使用高压清洗机时，配合凯彻泵保护套件保护您的高压清洗机。泵的保护套是专门为保护高压清洗机免受腐蚀、过早磨损、冻结等而设计的。润滑阀门和密封圈，防止它们粘在一起。
硅片清洗机电动类型：
1. 关闭晶圆清洁器；
2. 从泵上拆下高压软管和伺服喷嘴杆；
3.将阀门连接到泵的保护水箱上，打开阀门；
4. 启动并打开清洗机，将罐内所有物质吸进泵内；
5、关闭清洗机，现在高压清洗机可以直接储存。
发动机类型：
1. 关闭晶圆清洁器；
2. 从泵上拆下高压软管和伺服喷嘴杆；
3.将阀门连接到泵的保护水箱上，打开阀门；
4、点火时，拉动起动绳，将罐内所有物质放入泵内；
5、现在晶圆清洁器可以直接存储。
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更新时间：2019-07-10 
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