北京理工大学RIE-PECVD顺利安装验收

今年7月，北京理工的RIE-PECVD顺利安装验收。这套设备是Nano-Master极富特色的双系统设备，一套设备中实现反应离子刻蚀工艺，同时具备等离子增强化学气相沉积的工艺能力，既避免客户担心的交叉污染问题，又为实验室节省了宝贵的空间和预算，是大学院校和科研机构的热门选择。

NANO-MASTER(那诺-马斯特) PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可达12” 直径的基片上,可以通过不同配置实现高速沉积，或控制氮化物薄膜应力，或支持CNT和石墨烯生长。主要型号包含NPE-3000，NPE-3500，和NPE-4000。同时，NANO MASTER(那诺-马斯特)提供的全自动RIE系统主要用于刻蚀氧化物、氮化物和金属，可以根据需要配置ICP实现快速深刻，DRIE系统可用于深硅刻蚀。主要型号包含NRE-3000，NRE-3500，NRE-4000，NDR-4000。 如果用户同时有RIE和PECVD的需求，我们可以提供双系统方案以节省空间和预算。