products category
刻蚀系统
Related articles
RIE-PE刻蚀机技术性的特点以及一些资料分析
全自动磁控溅射系统的技术特点及应用领域
我们的优势|NLD4000型原子层沉积
全自动磁控溅射系统技术分类
进口晶圆清洗机采用PLC控制,易于操作,性能稳定
产品中心/ products
NIE-3500(R)RIBE反应离子束刻蚀
联系电话:021-62318025
NIE-3500(R)RIBE反应离子束刻蚀产品概述:该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为。
NIE-3500(R)RIBE反应离子束刻蚀产品特点:
产品应用:
返回列表
021-62318025
扫码加微信
点击隐藏