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NPC-3500(A)研发用等离子去胶机
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Plasma Asher等离子去胶机
NPC-3500(A)研发用等离子去胶机概述:NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
NPC-3500(A)研发用等离子去胶机产品特点
研发用等离子去胶机应用:
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