ICP等离子刻蚀机的工作原理基于利用射频电源在反应室内产生高密度的等离子体，这些等离子体包含大量的活性粒子，如离子、电子、自由基等。在强电场的作用下，这些活性粒子与被加工的材料表面发生物理或化学反应，从而实现材料的去除。ICP等离子刻蚀机的技术特点：1.高密度等离子体源：采用感应耦合方式产生高密度等离子体，提高了刻蚀速率和均匀性。2.良好的各向异性：由于等离子体的方向性较强，ICP刻蚀机能够实现高各向异性的刻蚀，有利于深宽比大的微结构的制备。3.宽工艺窗口：ICP刻蚀机能够在...

飞行时间二次离子质谱（TimeofFlightSecondaryIonMassSpectrometry，TOF-SIMS）是通过高能量的一次离子束轰击样品表面，使样品表面的原子或原子团吸收能量而从表面发生溅射产生二次粒子,这些带电粒子经过质量分析器后就可以得到关于样品表面信息的图谱。SIMS用于在超高真空条件下分析固体样品中元素、分子和同位素的分布和相对浓度，是zui灵敏的表面分析技术之一。SIMS可用于成像、光谱分析和深度剖面/三维分析。光谱分析模式可用于评估聚合物涂层的组...

全自动磁控溅射系统是一种利用磁场控制电子运动轨迹，使电子与靶材发生碰撞并溅射出原子或分子，从而在基片上形成薄膜的设备。与传统的磁控溅射设备相比，在结构上增加了自动化控制系统，能够实现对整个溅射过程的精确控制和自动化操作。主要由真空室、磁控溅射源、基片加热器、真空测量与控制系统以及自动化控制系统等部分组成。其中，自动化控制系统是核心部分，它通过接收传感器的信号，实时监测溅射过程中的各项参数（如真空度、温度、电流等），并根据预设的程序自动调整各项参数，以保证薄膜的质量和一致性。广...

二次离子质谱法是一种高效的分析技术，利用化合物的离子化过程及其质量分析，以确定待测化合物的分子量、分子式和结构特征。质谱仪作为该方法的重要组成部分，通过将离子的质量进行有效分离，并依据电荷与质量比率输出至检测器，在此被探测并转换为数字信号。简介在质谱分析中，有三种常见的质谱仪离子分析器可用于离子的分离。四极杆质谱仪飞行时间质谱仪磁扇形质量分析仪四极杆质谱仪直流偏压会使所有带电分子加速并远离中心线，其速度与它们的电荷与质量比成正比。当这些分子的轨迹偏离过大时，它们将撞击金属棒或...

TOF-SIMS（TimeofFlightSecondaryIonMassSpectrometry）飞行时间二次离子质谱仪的基本组件包括一次离子束，和用于样品深度剖析的离子束。主离子束被脉冲化以供飞行时间质谱仪进行分析使用。铋基液态金属离子枪（LMIGs）是商业ToF-SIMS中常用的离子源。与金等其他LMIG源相比，铋基离子源可以在较低的温度下工作，并能产生用于分析的离子簇（例如Bi3+）。这些离子束可以紧密聚焦，以实现高空间分辨率(亚表面分析可通过在双束模式操作来实现，包...

全自动磁控溅射系统是一种利用磁场控制等离子体溅射技术在基材上沉积薄膜的材料制备设备。广泛应用于半导体、光电、材料科学、装饰镀膜等领域，用于生产各种功能性和装饰性薄膜。通过精确控制溅射过程中的各种参数，实现了高效率、高稳定性和高质量的薄膜沉积。工作原理基于溅射效应，即在真空环境下，通过电场加速的气体离子（通常是氩离子）轰击靶材，使靶材原子或分子被轰击出来，然后沉积在基材上形成薄膜。磁控部分则是通过靶材背后的磁场设计，有效延长了电子在等离子体中的运动路径，提高了气体离化率和溅射效...

静态SIMS是一种非常灵敏的表面分析技术，能在只消耗样品单层一小部分的情况下，获得详细的质谱图。被分析的分子来自固体表面前几层，这对于探讨材料关键区域例如附着力或催化等性质至关重要。Kore公司的TOF-SIMSSurfaceSeer系列产品为科研和工业领域提供了高性价比的表面分析解决方案。以下数据展示了SurfaceSeer仪器在材料研究和分析方面的一些优势。实验质量分辨率和准确性图1.污染铝接头近来，仪器的质量分辨率和准确度均已经提高到2000（M/ΔM）以上。上图展示了...

飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）是一种表面分析技术，它将脉冲一次离子束聚焦到样品表面，在溅射过程中产生二次离子。分析这些二次离子可提供有关样品表面的分子、无机和元素种类的信息。例如，如果表面吸附了有机污染物（如油），TOF-SIMS将揭示这些信息，而其他技术则难以实现，特别是在污染物含量极低的情况下。由于TOF-SIMS是一种测量技术，因此通常可以检测到元素周期表中的所有元素，包括H。此外，这种分析可以提供质谱信息;样品上XY维度的图像信息;以及Z方向的深度剖面信息到...