在众多半导体工艺中，刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行，是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点，即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀，也有不需要的横向刻蚀，因而精度差，线宽一般在3um以上。RIE-PE刻蚀机是因大规模集成电路生产的需要而开发的精细加工技术，它具有各向异性特点，在zui大限度上保证了纵向刻蚀，还可以控制横向刻蚀。介绍的RIE-PE刻蚀机就是属于干法ICP刻蚀系统。RIE-PE刻蚀机为了适应工艺发展需求，各...

微波等离子清洗机也叫等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。微波等离子清洗机对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态...

继NANO-MASTER*技术的带淋浴头气流分布的平面ICP离子源应用于NANO-MASTER的刻蚀系统，ICPECVD沉积系统，PA-MOCVD生长系统之后，该ICP离子源顺利应用于ALD系统。由于该型技术设计的ICP源为平面设计的远程等离子源，可以在更低电源下达到更高的离子密度，具有电子温度低、离子密度高、腔体空间占比低等优势，确保了该ALD系统具有薄膜无损伤、生长速度快、脉冲周期短（沉积效率可以达到两倍以上）的先进性能。此外，可以实现低温（100度以内）的薄膜生长。

微波等离子清洗机技术在橡塑行业的应用已非常成熟，其相关产值逐年增加，国外市场比国内市场产值高，但国内可发展空间大，应用前景诱人。经济的发展，人们的生活水平不断提高，对消费品的质量要求也越来越高，微波等离子清洗机技术随之逐步进入生活消费品生产行业中；另外，科技的不断发展，各种技术问题的不断提出，新材料的不断涌现，越来越多的科研机构已认识到等离子技术的重要性，并投入大量资金进行技术攻关，微波等离子清洗机技术在其中发挥了非常大的作用。我们深信等离子技术应用范围会越来越广；技术的成熟...

微波等离子清洗机优势：一、清洗对象经微波等离子清洗机之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率。二、微波等离子清洗机使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。这在高度关注环保的情况下越发显出它的重要性。四、微波等离子清洗机采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体...

RIE-PE刻蚀机其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。RIE-PE刻蚀机是在湿法腐蚀技术基础上发展起来的，属于纯化学性腐蚀。这种方法腐蚀均匀性好、损伤小，缺点是各向刻蚀同性，对于1μm以下的细线条线宽损失明显。所以，在等离子刻蚀的基础上改进反应结构和接电方式，出现了反应离子刻蚀。该方法加快了纵向的腐蚀速度，具有各向异性的腐蚀...

无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾（氧化硅）的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比，有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。通过显微镜，我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种，一是由于砂砾产生的划痕，浅而细小，戴镜者不容易察觉；另一种是由较大砂砾产生的划痕，深且周边粗糙，处于中心区域则会影响视力。1、*代光学镀膜系统技术抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨...

任何一种光学仪器的用途和使用条件必然会对它的光学系统提出一定的要求，因此，在我们进行光学设计之前一定要了解对光学镀膜系统的要求。这些要求概括起来有以下几个方面。一、光学系统的基本特性：数值孔径或相对孔径；线视场或视场角；系统的放大率或焦距。此外还有与这些基本特性有关的一些特性参数，如光瞳的大小和位置、后工作距离、共轭距等。二、系统的外形尺寸：光学镀膜系统的外形尺寸，即系统的横向尺寸和纵向尺寸。在设计多光组的复杂光学系统时，外形尺寸计算以及各光组之间光瞳的衔接都是很重要的。三、...