飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）是一种表面分析技术，它将脉冲一次离子束聚焦到样品表面，在溅射过程中产生二次离子。分析这些二次离子可提供有关样品表面的分子、无机和元素种类的信息。例如，如果表面吸附了有机污染物（如油），TOF-SIMS将揭示这些信息，而其他技术则难以实现，特别是在污染物含量极低的情况下。由于TOF-SIMS是一种测量技术，因此通常可以检测到元素周期表中的所有元素，包括H。此外，这种分析可以提供质谱信息;样品上XY维度的图像信息;以及Z方向的深度剖面信息到...

什么是TOFSIMS?它可以应用于哪些领域？能提供哪些信息？哪些样品适用（哪些不适用）？在这一系列文章中，我们将解答所有这些问题，以及更多探讨。飞行时间二次离子质谱法（ToFSIMS）是一种用于研究固体表面和薄膜的三维化学组成的表面分析技术。聚焦的一次离子束轰击目标表面，产生中性原子/分子、二次离子和电子。二次离子通过飞行时间质谱仪进行收集和分析。质谱仪通过精确测量离子到达探测器所需的时间(即“飞行时间”)来测量离子的质荷比(m/z)。通过扫描一次离子束在样品表面的区域，可以...

二次离子质谱仪是一种强大的表面分析工具，它能够在微观层面上提供关于材料成分和结构的详细信息。它的应用范围广泛，从材料科学到生物医学，从半导体工业到地球科学。尽管SIMS具有许多优势，但它的操作和维护相对复杂，需要专业的技术人员和持续的培训。二次离子质谱仪的技术原理：1.一次离子束：一次离子束是由离子源产生的高能离子，通常使用铯离子，它们被加速到高能量并聚焦成细小的束流。2.二次离子产生：当一次离子束轰击样品表面时，会将表面原子或分子激发为离子，即二次离子。3.质谱分析：产生的...

空间环境模拟试验设备是一种高精尖的实验室设备，旨在模拟太空中的特殊环境条件，如超低温、高真空、太阳辐射、微重力、宇宙射线、原子氧侵蚀等。这些设备对于研发和测试航天器、卫星、探测器以及其他将要在太空中使用的材料和系统至关重要。空间环境模拟试验设备应用领域：1.航天器研制：对整星或部件进行环境试验，验证其性能和可靠性。2.材料研究：测试新材料在太空环境下的性能，为航天器选材提供依据。3.生命科学：研究生物组织在太空环境下的变化，为载人航天提供支持。4.物理科学实验：在模拟的太空环...

空间环境模拟试验设备是一种用于在地面模拟宇宙空间环境的高科技测试系统。这类设备通常用于对航天器、卫星、空间站等航天器材进行环境适应性测试，确保它们能够在真实的外太空环境中正常工作。通过一系列的高技术手段来模拟外太空的环境。例如，使用真空泵系统来模拟太空的真空环境；利用加热和制冷装置来模拟温度的特殊变化；通过紫外灯或粒子加速器来模拟太阳辐射；以及利用高速粒子喷射或机械冲击装置来模拟微流星体的冲击效果。这些设备通常配备有精密的控制系统和监测仪器，以确保测试条件的精确性和重复性。空...

微波等离子去胶机是一种先进的半导体制造设备，用于去除晶圆表面的光刻胶。在半导体制造过程中，光刻是一种关键技术，通过它可以将电路图案转移到硅片上。光刻过程需要在硅片表面涂覆一层光敏材料，称为光刻胶。在光刻过程完成后，需要将未曝光的光刻胶去除，这一步骤称为去胶。传统的去胶方法包括湿化学清洗和等离子清洗，但这些方法可能会对硅片表面造成损伤或者处理效率较低。等离子去胶机利用微波激发的等离子体来去除光刻胶，具有高效、环保、对硅片表面无损伤等优点。微波等离子去胶机的工作原理是利用微波能量...

微波等离子去胶机是一种先进的半导体制造设备，用于去除晶圆表面或器件上的光刻胶。在半导体制造过程中，光刻是一个关键步骤，它涉及到在晶圆上涂覆一层光敏材料（光刻胶），然后通过曝光和显影来形成所需的图案。完成这些步骤后，必须去除剩余的光刻胶，以进行后续的加工步骤。传统的去胶方法包括湿化学清洗和等离子体灰化，但这些方法可能不够有效、不够环保，或者对晶圆造成损害。微波等离子去胶机的优势：1.高效率：能够在较短的时间内处理大量晶圆，提高生产效率。2.环境友好：相比湿化学方法，微波等离子去...

微波等离子清洗机是一种利用微波等离子技术进行清洗的设备。它将高频微波信号通过导波管送入到介质内，产生高温、高压等离子体，利用等离子体的化学反应和物理作用对被清洗物体表面进行去污、去油、去氧化等处理。主要由微波发生器、微波导管、等离子体室、工件台等部分组成。微波发生器产生高频微波信号，经过微波导管传递到等离子体室内，激发气体分子产生等离子体。等离子体室内含有惰性气体或活性气体，当高能粒子与物体表面发生碰撞时，可使污垢、油脂等杂质氧化分解，达到清洗效果。微波等离子清洗机的特点和优...