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技术文章/ article
微波等离子清洗机是一种利用微波等离子技术进行清洗的设备。它将高频微波信号通过导波管送入到介质内,产生高温、高压等离子体,利用等离子体的化学反应和物理作用对被清洗物体表面进行去污、去油、去氧化等处理。主要由微波发生器、微波导管、等离子体室、工件台等部分组成。微波发生器产生高频微波信号,经过微波导管传递到等离子体室内,激发气体分子产生等离子体。等离子体室内含有惰性气体或活性气体,当高能粒子与物体表面发生碰撞时,可使污垢、油脂等杂质氧化分解,达到清洗效果。微波等离子清洗机的特点和优...
热真空试验箱是一种用于模拟高温和低压环境的设备,主要用于对产品在高温和真空条件下的性能进行测试和评估。热真空试验箱的特点:1.高温范围广:具有广泛的温度范围,通常可以覆盖-70°C至+150°C甚至更高的温度范围,能够满足不同产品的测试需求。2.真空度高:配备有高性能的真空系统,能够实现高真空状态,通常可以达到10^-5Pa的真空度,保证了试验的准确性。3.稳定性好:采用先进的控制系统和优质的材料制造,具有良好的稳定性和可靠性,能够长时间稳定地运行。4.操作简便:配备先进的触...
微波等离子去胶机是一种新型的去胶设备,采用微波等离子技术,具有高效、快速、环保、安全、适用性广等优点。在汽车制造、电子制造、医疗器械制造、环保领域等多个领域中得到了广泛应用。微波等离子去胶机具有以下几个优点:1.高效:采用微波等离子技术,能够快速、高效地去除各种材料表面的胶层。相比传统的去胶方法,具有更高的效率和更短的处理时间。2.环保:不需要使用化学试剂,只需使用气体即可实现去胶。因此,其对环境的影响较小,符合环保要求。3.安全:采用微波等离子技术,不会产生明火和爆炸等危险...
微波等离子去胶机是一种先进的设备,用于去除材料表面的胶粘剂。它利用微波能量和等离子体技术,能够高效、快速地去除各种胶粘剂,广泛应用于制造业和研发领域。工作原理基于微波能量和等离子体的相互作用。简单来说,当微波能量通过微波发生器传输到处理室时,胶粘剂会被加热并分解成气体状态。随后,等离子体技术将产生的气体进行电离,形成高能离子束。这些离子束能够击打在材料表面上的胶粘剂上,使其迅速分解和脱落。最终,经过处理的材料表面变得干净无胶粘物质。微波等离子去胶机的工作方式:1.设置处理参数...
光学镀膜设备是一种用于在光学元件表面制备薄膜的设备。它在各种光学应用中起着至关重要的作用,包括反射减弱、抗反射涂层、滤光器和分束器等。光学镀膜设备主要由以下组成部分构成:真空腔体、源材料、光学衬底、镀膜材料、辅助设备以及控制系统。1.真空腔体是核心部分。它提供了一个高真空环境,以避免源材料和镀膜材料的污染,并确保薄膜的均匀性和质量。真空腔体通常采用具有良好密封性能的金属或玻璃材料制成,以确保适当的真空度。2.源材料是用于生成薄膜的原始材料。它可以是金属、氧化物、氟化物等,根据...
微波等离子清洗机是一种先进的清洗设备,利用微波和等离子技术来高效而清洁物体表面。它在许多领域中都有广泛的应用,包括电子制造、医疗器械、航空航天等行业。工作原理是将被清洗的物体放置在一个封闭的容器内,并向容器内注入特定气体(如氢、氩等)。然后,通过微波加热产生高温和高压条件,使气体分解成等离子体。这些等离子体具有高能量和强氧化性,能够有效地去除物体表面的污垢和污染物。微波等离子清洗机具有以下几个显著的优点:1.高效清洗:微波加热可以迅速提高物体表面的温度,加速化学反应速率,从而...
掩模板清洗机是一种用于半导体制造过程中的设备,主要用于清洗掩膜板以保证芯片生产的质量。掩膜板是半导体生产过程中的一个关键工具,它用来将电路图案转移到硅晶圆上。在使用掩膜板之前必须对其进行清洗,以确保其表面没有污垢或杂质,这可以防止电路图案被污染或污损。基本原理是利用多种化学物质和机械力来清洗掩膜板。它由多个步骤组成,包括预处理、清洁、漂洗和干燥等。首先,在预处理步骤中,掩膜板被暴露在氧化剂中以去除有机污染物。然后,掩膜板被移动到清洁室,在清洁室中,掩膜板被浸泡在一种酸性或碱性...
热真空环境模拟试验设备是一种用于模拟真空环境下物体受热的设备,通常用于航空航天、半导体制造、材料科学和工程等领域。该设备可以通过控制温度、压力和气体组成等参数来模拟各种真空环境下的热应力。该设备主要由真空室、加热系统、冷却系统、真空系统、温度控制系统、数据采集和控制系统等组成。真空室是核心部件之一,其主要功能是提供真空环境下的测试空间,并保证测试空间内的真空度。真空室通常由不锈钢或铝合金制成,并具有较高的抗腐蚀性和耐高温性能。为了保证测试精度,真空室内表面必须经过特殊处理,如...