ICP刻蚀机是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺，包括刻蚀III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，InSb）、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。ICP刻蚀机主要特点：基于PC控制的立柜式百级ICP-RIE刻蚀系统，拥有快速的刻蚀能力；配套LabView软件，菜单驱动，自动记录数据；触摸屏监控；全自动系统，带安全联...

微波等离子化学气相沉积系统能够沉积高质量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到z大可达6”直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC.带有*气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无...

金属有机化学气相沉积系统是纳米制造领域的一项著名技术，在大规模集成电路、绝缘材料、磁性材料、光电子材料领域有着*的重要地位。通过利用气相间的反应，它能将蒸发的反应物沉积在表面形成薄膜，比如说石墨烯就是CVD广为认知的产物，但目前看来，制备薄膜半导体材料也是它受重视的应用之一。金属有机化学气相沉积系统的原理：CVD的研究始于十九世纪末，主要用于重要材料的合成和制备。若想知道CVD是如何制造特定薄膜的，那就得先了解它的原理。CVD属于“自下而上”的纳米制造技术，其原理是把含有构成...

光学镀膜系统是在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下，可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。当一束单色平面波入射到光学薄膜上时，在它的两个表面上发生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律给出，反射光和折射光的振幅大小则由菲涅耳公式确定...

空间环境模拟试验设备，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统z通常的应用之一是太空模拟。空间环境模拟试验设备腔体的大致尺寸为：直径24"，长度43"。带有一个16"x32"的滑动加热平，可以冷却到零下100摄氏度。热真空平台也可以加热到150摄氏度，具有高度的均匀度。在去边3cm后整个平台的温度均匀度...

热真空试验箱是专为干燥热敏性、易分解和易氧化物质而设计的，工作时可使工作室内保持一定的真空度，并能够向内部充入惰性气体，特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥，采用智能型数字温度调节仪进行温度的设定、显示与控制。热真空试验箱外壳由钢板冲压折制、焊接成型，外壳表面采用高强度的静电喷塑涂装处理，漆膜光滑牢固。工作室采用碳钢板或不锈钢板折制焊接而成，工作室与外壳之间填充保温棉。工作室的内部放有试品搁板，用来放置各种试验物品，工作室外壁的四周装有云母加热器。门封条采用硅橡胶条密封，...

进口光学镀膜机主要由真空镀膜机室、真空抽气机组及电柜(控制电柜、电子枪电柜)组成，其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。进口光学镀膜机工作原理是在高真空状态下、利用电子束对金属或非金属材料加热到适当的温度，材料受热后蒸发成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸发源至被蒸发基片距离大，蒸发出来的蒸汽分子向四处直射，碰到基片就沉积在基片表面形成膜层。进口光学镀膜机维护与保养主要包换电子枪安装与维护、光路的检修与维护、设备的清洗与保养。1.定期更换扩散泵油扩散泵油使用一段时...

我们的优势｜离子束刻蚀NANO-MASTER的离子束刻蚀系统有很强的适应性，可以根据不同的应用建立不同的结构，不同的样品台和离子源配置可实现不同的应用范围。系统中的样品台可实现正负90°倾斜、旋转、水冷和背氦冷却。NM成熟的技术可控制基片温度在50℃以内。通过倾斜和旋转，深沟可切成斜角，通过控制侧壁轮廓和径向可提高均匀性，不同的构造不同的应用可选择不同的选配项，也可增加溅射实现刻蚀之后的涂覆保护。应用十分广泛。NANO-MASTER的离子束刻蚀在行业中非常有竞争力，它凭什么可...