NANO-MASTERNLD-4000型等离子增强原子层沉积系统可以提供高品质的薄膜沉积，通过配套ICP离子源系统可以支持PEALD和T-ALD等广泛应用。众多的优势配置，使得NLD-4000型系统具有许多优势：√超高的薄膜均匀性√良好的粘附力√超净的沉积（高真空支持）√出色的工艺控制√高度的可重复性（计算机全自动工艺控制）√易使用（可直接调用编好的工艺程序）√运行可靠（所有核心组件均带有保护）√低维护（完整的安全互锁）√高、低温基片样品台√小的占地面积26”x44”√全自动...

随着光学镀膜设备的技能开展不断改造，而硬质薄膜的设计向着多元化、多层膜的方向开展。变成现在公司选择的镀膜技能。今天咱们经过专家剖析后，给予具体作答。镀膜机的正常操作办法应当参阅操作手册的指示操作。不过大致的操作程序，咱们简略的说一下吧：1.查看光学镀膜设备各操作操控开关是不是在"关"位置。2.翻开总电源开关，光学镀膜设备送电。3.低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，发动升钟罩阀，钟罩升起。4.装置固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在滚动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热...

随着原子层沉积技术与其他先进技术不断融合以及人们对原子层沉积设备的不断改进，诸如“等离子体增强原子层沉积技术”、“空间式原子层沉积技术”、“流化床原子层沉积技术”等新型原子层沉积技术逐渐出现并在一定程度上有效解决了传统热原子层沉积技术所面临的诸多难题。在过去二十多年，等离子体增强原子层沉积技术发展迅速。通过巧妙设计等离子体引入方式，人们已经设计出各种等离子体增强原子层沉积设备。从文献报道来看，针对太阳能光伏领域的应用，一套成熟的空间式原子层沉积设备需保证每小时超过3000片1...

我们大部分人都知道等离子有清洗活化的功能，今天我们来探讨下等离子去胶机。等离子去胶机反应机理：在干法等离子去胶技术中，氧是首要腐蚀气体。它在真空等离子去胶机反响室中受高频及微波能量效果，电离发生氧离子、游离态氧原子O*、氧分子和电子等混合的等离子体.等离子去胶操作方法：将待去胶片插入石英舟并平行气流方向，推入真空室两电极间，抽真空到1.3Pa，通入恰当氧气，坚持真空室压力在1.3-13Pa，加高频功率，在电极间发生淡紫色辉光放电，经过调理功率、流量等技术参数，可得不一样去胶速...

微波等离子清洗机广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污潮物、油污或油脂。今天，我们来看看微波等离子清洗机操作注意事项与应用吧。1、正确设置等离子设备的运行参数，按时设备使用说明书来执行。2、保护好等离子体的点火装置，以确保等离子清洗机可以正常的启动。3、等离子设备在启动前的准备工作，要对相关的人员进行培训，按照要求严格执行各项操作...

我们的优势｜NRE-4000型RIE-HCP系统NANO-MASTERNRE-4000型RIE-HCP系统，用于高速刻蚀硅、SiO2和Si3N4基片，通过配套HCP高密度中空阴极等离子源，系统可以支持RIE和RIE-HCP应用，提供广泛的应用。众多的优势配置，使得NRE-4000型系统具有许多优势：➢超高的薄膜均匀性➢良好的粘附力➢超净的沉积（高真空支持）➢出色的工艺控制➢高度的可重复性（计算机全自动工艺控制）➢易使用（可直接调用编好的工艺程序）➢运行可靠（所有核心组件均带有...

试验真空环境模拟为了考核和研究某些活动部件、伸展机构的干摩擦、冷焊性能和研究材料在真空条件下的升华、重量损失、老化等效应，需要在更高的真空度和其他空间环境因素的组合下进行试验。大家都知道现在真空系统在各个行业的应用越来越广泛，下面我们为大家介绍一下现在常用的热真空系统在热真空试验设备中的应用吧。热真空系统应用于半导体、集成电路、光电器件的制造工艺过程，是集成电路设备中的关键设备之一；它也用于各种其它镀膜设备和真空应用设备中。真空系统在热真空系统中的应用热真空系统是指在真空和一...

兆声清洗机不仅保留了超声波清洗的优点，而且克服了超声波清洗的缺点。兆声无损清洗机的工作原理是利用高能（850kHz）频率效应和化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗。在清洗过程中，换能器发出的高能声波波长为1m，频率为0.8MHZ。在声波的驱动下，溶液的分子运动得更快。瞬时速度可达30cm/s。因此，无法形成超声清洗等气泡。相反，兆声清洗机只能用高速的流体波不断地冲击晶圆片表面，迫使附着在晶圆片表面的微小污染物颗粒被去除并进入清洗溶液中。经济的发展，人们的生活水平不断提高，对消费...