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  • 2016-10-12

    兆声无损清洗设备不仅保存了超声波清洗的优点,而且克服了它的不足。兆声无损清洗设备理由是由高频振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时,由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动,zui大瞬时速度可达到30cm/s。因此,形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。如何选购兆声无损清洗设备,随着“以养代修”理念的深进推广,为了进步发...

  • 2016-09-22

    微波等离子去胶机操作规程:1、自动切割小车应经空车运转,并选定切割速度;2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定;3、高频发生器应设有屏蔽护罩,用高频引弧后,应立即切断高频电路;4、应检查并确认电源、气源、水源无漏电、漏气、漏水,接地或接零安全可靠;5、操作人员应站在上风处操作。可从工作台下部抽风,并宜缩小操作台上的敞开面积;6、小车、工件应放在适当位置,并应使工件和切割电路正极接通,切割工作面下应设有溶渣坑;7、微波等离子去胶机应根据工件材质、种类和...

  • 2016-09-07

    汽轮机组的热真空系统是由抽真空系统和密封蒸汽系统两部分组成,其作用就是用来建立汽轮机组的低背压,也就是用来建立凝汽器的高真空,使蒸汽能够zui大限度的把热焓转变为汽轮机的动能。在汽轮机组尚未投入运行时,凝汽器中的真空取决于抽热真空系统所建立的真空;在汽轮机组投入运行后,抽真空系统只是把泄漏到汽轮机内部的空气和不凝结气体及时抽走,凝汽器内的真空主要取决于进入凝汽器内的蒸汽与循环冷却水的热交换情况,而蒸汽与循环冷却水的热交换情况主要取决于凝汽器的换热面积、循环冷却水温度和循环水量...

  • 2016-08-29

    兆声无损清洗机不但保存了超声波清洗的优点,而且克服了它的不足。兆声无损清洗机的机理是由高能(850kHz)频振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时,由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动,zui大瞬时速度可达到30cm/s。因此,形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。兆声无损清洗机的特点:兆声能有效地清除亚微细颗粒。兆...

  • 2016-08-03

    微波等离子清洗机的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。微波等离子清洗机技术的zui大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和...

  • 2016-06-17

    一.产品结构晶圆清洗机主要结构特点:1、采用三套独立的电脑控制机械臂自动化作业2、采用第三代技术,全面完善的防酸防腐措施,保护到机器每一个角落3、全自动补液技术4、*的硅片干燥前处理技术,保证硅片干燥不留任何水痕5、成熟的硅片干燥工艺,多种先进技术集于一身6、彩色大屏幕人机界面操作,方便参数设置多工艺方式转换二.产品特点晶圆清洗机具有以下特点:1、械手或多机械手组合,实现工位工艺要求。2、PLC全程序控制与触摸屏操作界面,操作便利。3、自动上下料台,准确上卸工件。4、净化烘干...

  • 2016-06-15

    微波等离子清洗机(plasmacleaner)也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、涂覆等目的。微波等离子清洗机在封装工艺中的应用...

  • 2016-03-15

    单片晶圆清洗机是一款带有小占地面积的理想设备,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。单片晶圆清洗机提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以zui大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。单片晶圆清洗机特点:台式系统无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片...

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