反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品。具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔，便于晶圆片装载.腔体有两个端口：一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断。反应离子刻蚀机可以支持zui大到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。反应离子刻蚀机系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀，一个250l/s的涡轮分子泵，滤网过滤器，以及一个10...

带RIE等离子刻蚀机是干法刻蚀中zui常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。...

光学元件镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。光学元件镀膜机使用步骤电控柜操作1.开水泵、气源。2.开总电源。3.开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。4.开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。5.观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽...

镀膜机设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。①检查真空镀膜机各操作控制开关是否在"关"位置。②打开总电源开关，设备送电。③低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。④安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。⑤落下钟罩。⑥启动抽真空机械泵。⑦开复合真空计电源（复合真空计型号：Fzh-1A)。a.左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。b.低真空表“2”...

进口微波去胶机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含：大剂量离子注入后的光刻胶去除；干法刻蚀工艺的前处理或后处理；MEMS制造中的牺牲层去除。进口微波去胶机系统控制：PC,Windows,RS232,USB,Ethernet(也适用于远程控制)10.4”触摸屏、图形用户界面WindowsOffice兼容存储处理数据和错误信息，处理数据输出工艺参数图形曲线的监测自动或手...

热真空系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。热真空系统可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统zui通常的应用之一是太空模拟。热真空系统腔体的大致尺寸为：直径24"，长度43"。带有一个16"x32"的滑动加热平，可以冷却到零下100摄氏度。热真空平台也可以加热到150摄氏度，具有高度的均匀度。在去边3cm后整个平台的温度均匀度可达/-1摄氏度。加热平台安装在滚轴上，可以方便拉出zui大到75%的长度...

进口掩模板清洗机是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以zui大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。进口掩模板清洗机技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的zui大化支持的清洗，同时保证在样片的损...

等离子刻蚀反应离子刻蚀一体机又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中zui常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空...