硅片清洗机是一种专门用于清洗半导体硅片的设备。在半导体制造过程中，硅片经常需要进行清洗以去除表面的污染物和残留物，以确保良好的电性能和可靠性。清洗机通过一系列自动化步骤来完成清洗过程，提高效率和一致性。其优点包括高效性、自动化程度高以及清洗过程的一致性。它可以大大提高硅片的表面质量和可靠性，从而为半导体制造工艺提供稳定的基础。硅片清洗机通常由以下几个主要组件组成：1.浸泡槽：清洗液被存储在浸泡槽中，硅片将被浸泡在清洗液中以去除表面污染物。浸泡槽通常具有恒温功能，可以控制清洗液...

光学镀膜设备是一种用于制造光学器件的关键工具。它可以通过在材料表面上涂覆一层特定厚度和折射率的薄膜来改变光的传播方式和反射率，从而实现调节光学器件的性能和功能。核心部分是真空腔室和镀膜源。在真空腔室中，通过抽取气体使得其内部压强低于大气压，从而避免了材料与环境氧化和污染。镀膜源则是通过物理或化学方法产生镀膜材料蒸汽或离子束，使其在材料表面上沉积形成薄膜。光学镀膜设备的工作流程如下：（1）准备样品：清洗样品表面并放置在真空腔室内。（2）真空预处理：打开真空泵，抽出腔室内的气体，...

微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统是一种用于制备薄膜的先进技术，该技术利用了微波辐射和等离子体化学反应的优势。该系统包括一个微波发生器、一个反应室、一个气体供应系统和一个真空泵组成。首先，微波发生器产生高频电磁场，并将能量输送到反应室中，使得气体分子与微波电场产生相互作用，激发其内部电子从基态跃迁至激发态。这些激发态分子会与其他分子发生碰撞，从而形成等离子体。反应室由不锈钢材料制成，背面有水冷却装置，以控制反应室温度。室内设置有样品架，样品架上放置待处理材料。在反应室底...

RIE-PE刻蚀机是一种高精度的半导体加工设备，被广泛应用于集成电路、MEMS和纳米器件制造等领域。RIE-PE刻蚀技术是通过刻蚀气体的等离子体在材料表面产生化学反应和物理作用，从而实现高精度的微米、亚微米和纳米级图形加工的一种高效的方法。基本原理是利用等离子体在氧化物表面引起化学反应的方式进行浅刻蚀，然后使用惰性气体进行深刻蚀。这种刻蚀方法在半导体器件制造中得到了广泛应用，可实现精度在上微米（NM）量级以上的高精度加工。主要特点是能够控制等离子体的气氛、压力、功率、速率等参...

微波等离子去胶机是一种利用微波辐射和等离子技术将胶水分解、热分解或氧化分解成气态或液态的设备，主要用于去除化学胶、丙烯酸胶、双面胶、硅胶等胶水。一、工作原理工作原理是：使用微波辐射将胶水加热，胶水分子振动并迅速升温，胶水热解并释放出挥发性有机物，形成等离子体，并通过化学反应消除挥发性有机物，使胶水挥发，从而达到去除胶层的目的。二、使用方法1.准备工作（1）将微波等离子去胶机放置在干燥、通风位置。（2）检查机器是否正常运行，确认电源和加热是正常的。（3）将待去除胶水的物品放在去...

等离子去胶机具有体积小，性能优良、用途多、工艺速率高、均匀性及重复性好、价格低、使用方便等特点。是各电子器件企业及科研单位、大专院校的机型。适合于微电子制作工艺中光刻胶的去胶工艺，同时有RIE刻蚀功能，可以刻蚀Si、SiO2、SiN。已出口国外。等离子去胶机主要性能：1.开放式设计，可快速加载和卸载晶圆。2.基片放置在石英上，以避免溅射/再沉积电极材料3.通过顶部电极上的“莲蓬头”进气口将气体注入工艺室4.电感耦合等离子体(ICP)和电极的独立射频发生器提供对离子能量和离子密...

微波等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。微波等离子清洗机的优势：1、清洗对象经清洗机之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高...

光学镀膜系统无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾（氧化硅）的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比，有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。通过显微镜，我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种，一是由于砂砾产生的划痕，浅而细小，戴镜者不容易察觉；另一种是由较大砂砾产生的划痕，深且周边粗糙，处于中心区域则会影响视力。光学镀膜系统特点分类：主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等，它们在国民经济和...