光学镀膜设备广泛应用于数码科技(成像、显示、电路、结构装饰件)，传统光学、眼镜，科学仪器、光通信、半导体、新能源等。光学镀膜设备光学薄膜是建立在光学元件上镀特定的膜质来改变光波传递的特性、干涉光的效果达到的效果，高科技改变着人们的生活，光学镀膜设备自然受到市场青睐，后期将会有更广阔的前景，那么光学薄膜在光学系统中的启到哪些作用呢？1、提高光学效率，减少杂光，例如反射镜镀制光学薄膜，提高或者减少光的反射效果。高反射镜只取反射光，尽量减少透射光；减反射镜减少光学元器件表面的发射光...

进口晶圆清洗机采用Nano-Master进口兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。进口晶圆清洗机设备特点：▲可更换清洗吸盘，可使用4-12英寸的清洗吸盘；▲操作程序可按作业需求编写调整，设备运行流程、清洗时间及各项参数可自行编制；▲设备运行状态及参数在线实时监控，自动门配有安全光栅，保证操作安全；▲采用真空吸附式清洗盘，晶元夹具的取放更安全、方便；▲摆臂式清洗，清洗范围可编制...

等离子体增强MOCVD也就是大名鼎鼎的MOCVD(金属有机物化学气相沉积),针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有加热的气体管路、5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、950度样品台三个气体环、PC全自动控制、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5x10-7Torr极限真空)，*的安全互锁。等离子体增强MOCVD技术特点：台式系统5个带独立冷却槽的...

光学镀膜系统的清洗：设备使用一个星期后（三班），因镀料除镀在工件表面外，亦因无定向性而工作室内的衬板上镀料，并越镀越厚，该层膜厚因组织、繞疏松，吸收大量气体而造成真空镀膜设备抽气越来越慢。此时，应对工作室及衬板进行清洗，如不必要拆落来的部件，可用砂纸打磨干净，衬板可浸泡在水溶液里，水的比例看需要浸泡时间长短以及不伤衬板为原则。注：衬板必须烘干水份才能安装，烘干前，衬板的水分尽量抹干，工作架等部件用砂纸清洁后，需要把真空室的所有灰尘清理干净，此可用吸尘器吸干净灰尘。最后安装衬板...

等离子去胶机和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。等离子去胶机的工作原理：等离子去胶法，去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反应系统中，通入少量氧气，加1500V高压，由高频信号发生器产生高频信号，使石英管内形成强的电磁场，使氧气电离，...

光学镀膜设备是现代光学和光电系统重要的组成部分，在光通信、光学显示、激光加工、激光核聚变等高科技及产业领域已经成为核心元器件，其技术突破常常成为现代光学及光电系统加速发展的主因。光学薄膜的技术性能和可靠性，直接影响到应用系统的性能、可靠性及成本。随着行业的不断发展，精密光学系统对光学镀膜设备的光谱控制能力和精度要求越来越高，而消费电子对光学薄膜器件的需求更强调超大的量产规模和普通大众的易用和舒适性。光学镀膜设备在过去几十年实现了长足的进展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助...

上周NMC专业的售后服务工程师至渭南师范学院完成了原子层沉积系统NLD-3000的安装调试，并顺利验收！NLD-3000是一款PC全自动工艺控制的台式ALD系统，包含完整的安全联锁功能，能够沉积氧化物、氮化物、硫化物、氟化物、金属等高品质的薄膜，达到光学级别的表面粗糙度。阳极氧化铝腔体采用内外双层上下结构设计，加热腔壁和气动升降顶盖，一键实现顶盖开启/闭合。系统集成快速脉冲传输阀和多孔大面积加热的ALD过滤器，可吸收多余前驱体。工艺程序、温度设定值、气体流量、抽真空卸真空工序...

原子层沉积前驱体往往都是金属有机化合物，合适的前驱体种类较少而且价格昂贵；传统热原子层沉积技术因需要长时间的惰气吹扫以保证随后的表面自限制薄膜生长，沉积速率较慢，不适合大规模工业生产；随着原子层沉积技术与其他先进技术不断融合以及人们对原子层沉积设备的不断改进，诸如“等离子体增强原子层沉积技术”、“空间式原子层沉积技术”、“流化床原子层沉积技术”等新型原子层沉积技术逐渐出现并在一定程度上有效解决了传统热原子层沉积技术所面临的诸多难题。一套成熟的空间式原子层沉积设备需保证每小时超...