原子层沉积技术经过四十多年的发展，无论是在沉积材料的种类还是具体沉积方法的扩展与改进上，都已经取得了长足进步，在众多领域更是展现出令人期待的商业前景。但传统的热原子层沉积技术在发展过程中仍面临着一些挑战。比如：原子层沉积前驱体往往都是金属有机化合物，合适的前驱体种类较少而且价格昂贵；传统热原子层沉积技术因需要长时间的惰气吹扫以保证随后的表面自限制薄膜生长，沉积速率较慢，不适合大规模工业生产；此外，热原子层沉积技术难以用来沉积金属Ti，Ta等特殊材料。随着原子层沉积技术与其他先...

ICP刻蚀机作为核心刻蚀工艺设备，其工艺表现将直接影响鳍式晶体管器件的工艺性能和良率，凭借其优良的刻蚀形貌控制、均匀性控制、较低刻蚀损伤、较高刻蚀选择比等方面的技术优势，随着半导体工艺技术的发展，湿法刻蚀由于其固有的局限性，已不能满足超大规模集成电路微米、甚至纳米级细线条的工艺加工要求，干法刻蚀逐渐发展起来。在干法刻蚀中，感应耦合等离子体(InductivelyCoupledPlasma简称ICP)刻蚀法由于其产生的离子密度高、蚀刻均匀性好、蚀刻侧壁垂直度高以及光洁度好，逐渐...

在各种集成电路的制造过程中，随着清洗方法的不断创新与联合应用，目前的硅片清洗机已不再是一个简单的制作步骤，而是一个系统的清洗工程。硅片清洗技术的革新与发展，推动了清洗设备制造企业加大研发力度，不仅仅是制造出设备，从某个角度来说，还需根据各家硅片生产企业的具体情况提供不同的清洗方案和设备定制设计，帮客户大限度地降低成本和减少损失，同时尽量减少清洗设备本身可能带来的沾污。未来的硅片清洗机将向整合性，集成化与全自动的方向发展。由于硅片表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性和成品率...

硅片清洗机不仅保留了超声波清洗的优点，而且克服了超声波清洗的缺点。兆声无损清洗机的工作原理是利用高能（850kHz）频率效应和化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗。在清洗过程中，换能器发出的高能声波波长为1m，频率为0.8MHZ。在声波的驱动下，溶液的分子运动得更快。瞬时速度可达30cm/s。因此，无法形成超声清洗等气泡。相反，硅片清洗机只能用高速的流体波不断地冲击晶圆片表面，迫使附着在晶圆片表面的微小污染物颗粒被去除并进入清洗溶液中。经济的发展，人们的生活水平不断提高，对消费...

影响一面平面透镜的透光度有许多成因。镜面的粗糙度会造成入射光的漫射，降低镜片的透光率。此外材质的吸旋光性，也会造成某些入射光源的其中部分频率消散的特别严重。例如会吸收红色光的材质看起来就呈现绿色。不过这些加工不良的因素都可以尽可能地去除。光学镀膜系统我们知道是由于现代光学和光电系统重要的组成部分，在光通信、光显示、激光加工、激光融合等高技术和工业领域，技术突破往往成为现代光学和光电子系统加速发展的主要原因。光学镀膜的技术性能和可靠性直接影响到应用系统的性能、可靠性和成本。随着...

通常空气的成分能够看作由绝干空气、水汽、尘土三有些组成。热真空试验箱温度为音准空气在必定压力及温度下所含水汽的质量。饱和湿度为单位空气在该条件下所能包括的大水汽质量。温度超市，空气中所能包括的水汽越多，饱和湿度越大。湿度与饱和湿度的比值为相对湿度。假如坚持空气的湿度而下降空气的温度，当温度低至必定值后，水蒸汽的分压力到达对应于其时空气温度的饱和压力，该条件下的空气中水汽就到达饱和。假如进一步下降空气温度，水汽就会从空气中冷凝析出构成“露滴”。这种表象被称为“凝露”。热真空试验...

在早些年前ICP刻蚀机在行业内几乎都统称为触摸屏激光刻蚀机，在触摸屏行业内得到了广泛应用，手机电阻屏、电容屏的发展也让激光刻蚀机厂家发展发生了质的变化，主要体现为ITO玻璃激光刻蚀、银浆玻璃激光刻蚀等，也有一部分是ITO薄膜与银浆薄膜刻蚀。ICP刻蚀机是基于真空中的高频激励而产生的辉光放电将四氟化碳中的氟离子电离出来从而获得化学活性微粒与被刻蚀材料起化学反应产生辉发性物质进行刻蚀的。同时为了保证氟离子的浓度和刻蚀速度必须加入一定比例的氧气生成二氧化碳。ICP刻蚀机主要对太阳能...

2019年7月16日，我司成功中标西安电子科技大学等离子增强化学气相沉积设备采购招标项目。本项目选用NANO-MASTER设计生产的NPE-4000系统，该系统为紧凑型设计PC控制的独立式下游式PECVD系统，占地面积仅为26”x44”（包含自动LoadLock单元）,不锈钢立柜。本设备有以下主要突出优势：根据客户的具体应用和需求，配置NANO-MASTER设计的中空阴*密度离子源。带淋浴头的平面离子源，具有离子密度高、电子温度低以及腔体占空比低的特点，从而带来高速、超低损伤...