随着汽车行业的发展，其各方面性能要求越来越高。点火线圈有提升动力，zui明显的效果是提升行驶时的中低速扭距；消除积碳，更好的保护发动机，延长发动机的寿命；减少或消除发动机的共振；燃油充分燃烧，减少排放等诸多功能。微波等离子清洗机要使点火线圈充分发挥它的作用，其质量、可靠度、使用寿命等要求必须达到标准，但是目前的点火线圈生产工艺尚存在很大的问题——点火线圈骨架外浇注环氧树脂后，由于骨架在出模具前表面含大量的挥发性油污，导致骨架与环氧树脂结合面粘合不牢靠，成品使用中，点火瞬间温度...

掩模板清洗机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，微波等离子清洗机发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。微波等...

RIE-PE刻蚀机是基于真空中的高频激励而产生的辉光放电将四氟化碳中的氟离子电离出来从而获得化学活性微粒与被刻蚀材料起化学反应产生辉发性物质进行刻蚀的。同时为了保证氟离子的浓度和刻蚀速度必须加入一定比例的氧气生成二氧化碳。RIE-PE刻蚀机主要对太阳能电池片周边的P—N结进行刻蚀，使太阳能电池片周边呈开路状态。也可用于半导体工艺中多晶硅，氮化硅的刻蚀和去胶。刻蚀精度主要是用保真度、选择比、均匀性等参数来衡量。所谓保真度度，就是要求把光刻胶的图形转移到其下的薄膜上,即希望只刻蚀...

1)微波等离子去胶机理：在干法等离子去胶工艺中，氧是主要腐蚀气体。它在真空等离子去胶机反应室中受高频及微波能量作用，电离产生氧离子、游离态氧原子O*、氧分子和电子等混合的等离子体，其中具有强氧化能力的游离态氧原子（约占10-20%）在高频电压作用下与光刻胶膜反应：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反应后生成的CO2和H2O，随即被抽走。2)微波等离子去胶机操作方法：将待去胶片插入石英舟并平行气流方向，推入真空室两电极间，抽真空到1.3Pa，通入适量氧气，保...

热真空试验箱是目前环境试验设备行业中zui热门的试验设备之一,而林频仪器的设备也以的环境试验设备和可靠性环境试验解决方案成为行业中的*。但是再好的设备如果使用不当或缺少保养也会出现各种故障,今天就和各位来讲讲热真空试验箱在使用中有可能会出现哪些故障以及解决方案吧。热真空试验箱技术规格1、真空干燥箱是专为干燥热敏性、易分解和易氧化物质而设计的,工作时可使工作室内保持一定的真空度,并能够向内部充入惰性气体,特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥,采用智能型数字温度调节仪进行温度...

热真空试验箱是在地面上模拟太空环境的环境模拟试验设备。近几年来,热真空试验设备在航天航空业产品的研制和定型中发挥了重要作用。热真空试验箱由于结构复杂,在运行中有时会出现一些异常现象,如果不能及时排除,将延长试验周期,影响产品的研制工作。为此,我们对热真空试验箱的基本工作原理作一些简要阐述,并介绍如何对热真空试验箱的一般故障进行分析判断和排除。1、热真空试验箱工作原理下面以和热真空试验箱为例简要介绍其工作过程。试验箱由主泵涡轮分子泵、机械泵、预抽阀、主抽阀等组成真空机组,对真空...

光学镀膜设备原理磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置100～1000Gauss强力磁铁,真空室充入011～10Pa压力的惰性气体(Ar),作为气体放电的载体。光学镀膜设备在高压作用下Ar原子电离成为Ar+离子和电子,电子在加速飞向基片的过程中,受到垂直于电场的磁场影响,使电子产生偏转,被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,在运动过程中不断与Ar原子发生碰撞,电离出大量的Ar+离子，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,zui终落在基片、...

硅片清洗机物理清洗有三种方法：①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗：超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。硅片清洗机发展展望：伴随着硅片的大直径化,器件结构的超微小化...