微波等离子清洗机技术的zui大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。经济的发展，人们的生活水平不断提高，对消费品的质量要求也越来越高，等离子技术随之逐步进入生活消费品生产行业中；另外，科技的不断发展，各种技术问题的不断提出，新材料的不断涌现，越来越多的科研机构已认识到等离子技术的重要性，并投入大量资金进行技术攻关，等离...

光学镀膜系统在这个阶段里要设计拟定出光学系统原理图，确定基本光学特性，使满足给定的技术要求，即确定放大倍率或焦距、线视场或角视视场、数值孔径或相对孔径、共轭距、后工作距离光阑位置和外形尺寸等。因此，常把这个阶段称为外形尺寸计算。一般都按理想光学系统的理论和计算公式进行外形尺寸计算。在计算时一定要考虑机械结构和电气系统，以防止在机构结构上无法实现。每项性能的确定一定要合理，过高要求会使设计结果复杂造成浪费，过低要求会使设计不符合要求，因此这一步骤慎重行事。无论是无机材料还是有机...

随着NANO-MASTER*技术的ICP源的深入应用，对于大面积的基片提供均匀高品质的薄膜生长得以实现。到目前为止，NANO-MASTER的ALD系统可以支持在任意尺寸的衬底上的扩展，这给显示和照明等领域带来好消息。此外，NANO-MASTER同时具备粉末处理能力的扩展。这样，NANO-MASTER系统已经可以支持在任意尺寸和任意形状的固体上进行原子级生长。在应用选择方面，我们支持热ALD和PEALD系统的单独应用，同时也支持ALE/ALD双系统、IBE/ALD双系统、ALD...

微波等离子清洗机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，微波等离子清洗机发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。微...

今年7月，北京理工的RIE-PECVD顺利安装验收。这套设备是Nano-Master极富特色的双系统设备，一套设备中实现反应离子刻蚀工艺，同时具备等离子增强化学气相沉积的工艺能力，既避免客户担心的交叉污染问题，又为实验室节省了宝贵的空间和预算，是大学院校和科研机构的热门选择。NANO-MASTER(那诺-马斯特)PECVD系统能够沉积高质量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到zui大可达12”直径的基片上,可以通过不同配置实现高速沉积，或控制氮化物薄膜应力，或支持CNT和石...

八月初，深圳先进院磁控溅射NSC-3500安装条件已具备，NANO-MASTER的工程师们为深圳先进院安装调试实施。本套NSC-3500是带机械手臂的全自动控制型号，标准配置带有水冷或者加热(zui高可加热到700度)功能，zui大到6"旋转平台，zui大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7Torr，15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500带有14"立方形不锈钢腔...

微波等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在...

如何保养晶圆清洗机？保养晶圆清洗机的方法有哪些？保养晶圆清洗机注意事项有哪些？下面就由小编为大家总结了一些使用经验，希望能对大家在养护时得到帮助。日常维护：1、冲洗接入清洁剂的软管和过滤器，去除任何洗涤剂的残留物以助于防止腐蚀；2、关断连接到清洗机上的供水系统；3、扣动伺服喷枪杆上的扳机可以将软管里全部压力释放掉；4、从清洗机上卸下橡胶软管和高压软管；5、切断火花塞的连接导线以确保发动机不会启动(适用于发动机型)。电动型:将电源开关转到‘开’和‘关’的位置四到五次每次1-3秒...